10- تولید نانومواد با روش رسوب دهی شیمیایی از فاز بخار

10- تولید نانومواد با روش رسوب دهی شیمیایی از فاز بخار
سطح مقاله

پیشرفته 2
نویسندگان

ابراهیم توکلیان
( نویسنده )

محسن سروری
( نویسنده )

کلمات کلیدی

مسابقه ملی فناوری نانو
امتیاز کاربران

۴ امتیاز از ۵ (۳ رای)

 
 
آمار مقاله

  • بازدید کل ۱۲,۱۸۶
 
آمار آزمون مقاله

  • کل شرکت کنندگان ۱۲۴
  • تعداد افراد شرکت کننده ۱۹
 
 

10- تولید نانومواد با روش رسوب دهی شیمیایی از فاز بخار

رسوب‌دهی شیمیایی از فاز بخار (CVD) یکی از کاربردی‌ترین روش‌ها در تهیه سطوح ویژه جهت ساخت تجهیزات با فناوری بالاست. در این مقاله سعی بر این است که توجه خود را بر روی رسوب‌دهی نیمه‌رساناها، برخی فلزات و در نهایت پلیمرها معطوف کنیم. فیلم‌های بسیار متنوعی با روش CVD تولید می‌شوند. گازها و پیش‌ماده‌های متعددی برای ساخت لایه نازک با کیفیت و خصوصیات متفاوت به کار گرفته می‌شود. در برخی موارد برای سنتز هر گونه از چندین پیش‌ماده می‌توان استفاده کرد. سعی بر آن است که به عنوان نمونه چندمورد از سنتزهای کاربردی با روش CVD توضیح داده شود.

این مقاله شامل سرفصل‌های زیر است:

1- مقدمه
2- فرآیند CVD برای تولید مواد نیمه‌رسانا
1-2- تهیه پلی سیلیکون (Polysilicon) با روش CVD

2-2- تهیه سیلیکون دی اکسید
3-2- تهیه سیلیکون نیترید
3- فرآیند CVD برای تولید فلزها
1-3- رسوب‌دهی طلا
2-3- مس

4- فرآیند CVD برای تهیه پلیمرها
5- نتیجه‌گیری


لطفا برای مشاهده متن کامل مقاله ابتدا وارد سایت شوید
منابـــع و مراجــــع
۱ - SURFACE ENGINEERING SERIES Volume, Chemical Vapor Deposition, Edited by Jong-Hee Park, T.S. Sudarshan 2001 ASM International
۲ - A. Sherman, “Chemical Vapor Deposition for Microelectronics”, Reprint Ed, Noyes publications, New Jersey, U.S.A, 1987.
۳ - H O. Pierson, “handbook of chemical vapor deposition (CVD) principles, technology,applications”, 2th Ed, Noyes publications Park Ridge, New Jersey, U.S.A, 2001.
۴ - The Chemistry of Metal CVD”, ed. Toivo T. KodasMark J. Hampden-Smith, Weinheim ; New York ; Base1 ; Cambridge ; Tokyo : VCH, 1994.
ارسال نظر