بسته جامع غیرحضوری «پوشش‌دهی به روشPVD (تئوری - عملی)»

بسته جامع غیرحضوری «پوشش‌دهی به روشPVD (تئوری - عملی)»
 
  • تاریخ درج ۱۴۰۰/۱۰/۰۱
  • تعداد بازدید 31,094
 
موضوع

آموزش غیرحضوری
 
 
امتیاز کاربران

امتیاز از ۵ (۰ رای)

 
 
 

بسته جامع غیرحضوری «پوشش‌دهی به روشPVD (تئوری - عملی)»

رسوب‌دهی فیزیکی بخار ((PVD) Physical Vapor Deposition) یکی از روش‌های انباشت در خلاء می‌باشد که می‌تواند برای تولید لایه‌های نازک و پوشش‌ها استفاده شود. پوشش‌دهی شامل تکنیک‌هایی است که با ایجاد لایه‌ای محافظ بر روی سطح قطعات، خواص فیزیکی، شیمیایی یا مکانیکی مورد نیاز آن‌ها را تامین می‌کنند. پوشش‌های PVD به‌طور کلی برای بهبود سختی، مقاومت در برابر سایش و مقاومت به اکسیداسیون استفاده می‌شود؛ بنابراین، چنین پوشش‌هایی در طیف گسترده‌ای از کاربردهای کاربردی مانند: هوافضا، ربات‌های جراحی/ پزشکی، ابزار برش، فیلم‌های نازک و ... مورد استفاده قرار می‌گیرد.

سایت آموزش فناوری نانو بسته جامع غیرحضوری «پوشش‌دهی به روش PVD (تئوری-عملی)» را ارائه می‌کند. این بسته شامل آموزش مباحث تئوری پوشش‌دهی به روش PVD و همچنین نحوه کار با دستگاه‌های PVD (کندوپاش مغناطیسی و تبخیر حرارتی) است.

*** این دوره شامل 6 ساعت محتوای آموزشی (ویدیو و آزمون) است و علاقه‌مندان پس از ثبت‌نام در دوره، به محتوای آموزشی دوره دسترسی خواهند داشت؛ دانشجویان، فارغ‌التحصیلان و پژوهشگران رشته‌های مهندسی مواد، شیمی، فیزیک، فناوری نانو، مهندسی مکانیک، مهندسی شیمی، مهندسی خوردگی، مهندسی هوافضا و سایر رشته‌های مهندسی می‌توانند از محتوای این دوره برای انجام مطالعات و پژوهش‌های خود استفاده کنند.

*** دسترسی به دوره محدودیت زمانی ندارد و شرکت‌کنندگانی که موفق به کسب نمره بالای 50 درصد در آزمون پایان‌دوره شوند، گواهی الکترونیکی پایان دوره فارسی و انگلیسی را دریافت می‌کنند.


هزینه ثبت‌نام در این دوره 304هزار تومان است.

لینک زیر جهت ثبت‌نام مستقیم در این دوره آماده شده است:


 


 


سرفصل‌های بسته جامع غیرحضوری «پوشش‌دهی به روشPVD (تئوری - عملی)»
 

* اهمیت لایه نازک
- لایه نازک
- کاربرد لایه نازک در عرصه‌های مختلف

* روش‌های رشد لایه‌های نازک
- اصول رشد لایه‌های نازک
- اصول تبخیر-چگالش

* مکانیزم‌های چسبندگی پوشش روی سطح زیرلایه
- مشخصات سطحی زیرلایه برای فرآیندهای لایه‌نشانی

* عوامل مؤثر بر فرآیند لایه‌نشانی
* شرایط رشد لایه‌های نازک تک بلوری
* علم خلأ
* تجهیزات تولید داخل
* کاربرد پوشش‌های PVD در صنایع مختلف
- در حوزه پزشکی
- در حوزه نساجی
- سد حرارتی
- مقاوم در برابر سایش

* دستگاه کندوپاش مغناطیسی
(Magnetron sputtering)
* دستگاه لایه نشانی به روش تبخیر حرارتی
(Thermal Evaporation)



 

سرکار خانم مهندس گل‌آرا کفیلی
- دانشجوی دکتری مهندسی فناوری نانو - دانشگاه صنعتی شریف
- محقق در زمینه‎های پرینتر سه‌بعدی ساختارهای زیستی، مهندسی بافت و سنتز نانوذرات
- تألیف مقالات پژوهشی متعدد در مجلات معتبر بین‌المللی در حوزه پرینتر سه بعدی، هیدروژل‌ها، و ساختارهای هسته-پوسته

جناب آقای مهندس شعیب وسینی
- کارشناسی ارشد نانوفناوری - نانومواد از دانشگاه تربیت مدرس
- کارشناس ارشد پلتفرم نانوپوشش مرکز صنعتی‌سازی نانوفناوری کاربردی (آیکن)
- مدرس کارگاه‌های نانوپوشش و DRIE در مرکز آیکن و دانشگاه تربیت مدرس
- تألیف و همکاری در تألیف سه مقاله پژوهشی در مجلات معتبر بین‌المللی در زمینه انبرک پلاسمونی 
- همکاری در ثبت اختراع داخلی در زمینه ساخت حسگر اکسیژن از نوع نوری لومينوفور

 

بسته جامع غیرحضوری «پوشش‌دهی به روشPVD (تئوری - عملی)»
 
مدت زمان دوره 6 ساعت (شامل ویدیو آموزشی به همراه آزمون)
دسترسی به محتوای دوره بلافاصله پس از ثبت‌‌نام و به صورت نامحدود
نحوه شرکت در آزمون - به صورت آنلاین و پس از گذراندن مراحل آموزشی در صفحه دوره
- بدون محدودیت زمانی
وضعیت گواهی الکترونیکی؛ فارسی و انگلیسی (با کسب 50 درصد در آزمون پایان‌دوره)
هزینه دوره 304 هزار تومان
ثبت‌نام مستقیم از طریق زرین‌پال ثبت‌نام
 

نکات مهم:
- گواهی پایان دوره الکترونیکی، بلافاصله پس از کسب حدنصاب در آزمون در سایت و از طریق بخش رویدادهای من قابل مشاهده و دریافت است.
- محتوای دوره از طریق بستر سایت آموزش قابل استفاده است.

 

ابتدا وارد سایت آموزش فناوری نانو شوید (در صورتی که عضو سایت نیستید، ابتدا در سایت عضو شوید: عضویت در سایت)؛ پس از ورود به سایت، در دوره مدنظر خود ثبت‌نام کنید. برای دسترسی به دوره ثبت‌نامی خود، کافی است وارد سایت شوید و بر روی نام کاربری خود کلیک کنید؛ با ورود به بخش رویدادهای من، به دوره ثبت‌نامی خود دسترسی خواهید داشت.

برای کسب اطلاعات بیشتر درباره دوره با شماره‌ 09104712036 تماس حاصل فرمایید.

ارسال نظر