فناوری چشمه یونی در لایه نشانی
فناوری چشمه یونی در لایه نشانی
قطعات تولیدی با استفاده از فناوری لایه نازک، بنا به استحکام، حساسیت و دقت خیرهکنندهشان در بسیاری از صنایع حساس و استراتژیک مانند ساخت مدارات مجتمع، سنسورها، لیزر و سلولهای خورشیدی مورد استفاده قرار میگیرند. ساخت این نوع قطعات حساس، مستلزم استفاده از روشهای پیچیده لایهنشانی است. با توجه به تبیین تعدادی از روشهای سنتی لایهنشانی در مقالات مقدماتی، در مقاله پیشرو تلاش شده است تا روشهای نوین لایهنشانی مورد توجه قرار گیرند. از اینرو، در این مقاله به یکی از فناوریهای جدید به نام فناوری چشمه یونی در لایهنشانی پرداختهایم که امروزه بنا به تأثیر چشمگیرشان در افزایش کیفی قطعات تولیدی، بیش از پیش مورد توجه محققین و دانشمندان مرتبط با این فناوری قرار گرفته است.
این مقاله شامل سرفصلهای زیر است:
مقدمه
1- سامانه کندوپاش یونی IBS(Ion Beam Sputtering)
2- تکنیک IBAD(Ion Beam Assisted Deposition)
3- تکنیک ترکیبی Dual Beam
4- سامانه تبخیری- یونی
لطفا برای مشاهده متن کامل مقاله ابتدا وارد سایت شوید
منابـــع و مراجــــع