سایت آموزش فناوری نانو

آزمون مقاله

مقالات مرتبط

آمار مقاله

بازدید کل ۲۹,۳۵۸

آمار آزمون مقاله

کل شرکت کنندگان ۶۴۲
تعداد افراد شرکت کننده ۹۸

طیف‌نگاری فوتوالکترونی اشعه ایکس (XPS)

طیف‎ نگاری فوتوالکترونی اشعه ایکس (XPS)، روش آنالیزی برای بررسی سطح مواد از نقطه نظر آنالیز عنصری، ترکیب شیمیایی و تعیین حالت پیوندی است. در این روش، سطح نمونه با اشعه ایکسِ تک انرژی بمباران می‎شود و فوتوالکترون‌‎های پرانرژی‌ترِ تولید شده، موفق به فرار از ماده می‎‌شوند. این فوتوالکترون‎‌ها پس از ارسال به تحلیل‎گر انرژی و تعیین انرژی جنبشی آن‎ها، به آشکارساز هدایت می‎‌شوند تا تعداد فوتوالکترون‎‌های تولیدی با انرژی جنبشی مشخص شمارش شوند. در نهایت این اطلاعات به صورت تعداد فوتوالکترون‎‌ها بر حسب انرژی پیوندی رسم می‎‌‍شوند. از آن جایی که انرژی فوتوالکترون‎‌های داخلی، مشخصه هر اتم است؛ تعیین عناصر موجود در نمونه، با اندازه‌گیری انرژی‎‌های جنبشی فوتوالکترون‌های خارج شده از نمونه، امکان‎‌پذیر است. حالت شیمیایی عناصر موجود در نمونه، از انحرافات مختصر در انرژی‎های جنبشی و غلظت‎های نسبی آن عناصر با توجه به شدت‎‌های فوتوالکترون‎‌های مربوط به هر عنصر قابل اندازه‌گیری است.

این مقاله شامل سرفصل‌های زیر است:
1- مقدمه
2- اجزای تشکیل‎‌دهنده طیف‌‎نگار فوتوالکترونی اشعه ایکس
1-2- منابع اشعه ایکس
2-2- تحلیلگر انرژی
3-2- آشکارساز
3- آماده‎‌سازی نمونه
4- طیف فوتوالکترون اشعه ایکس

لطفا برای مشاهده متن کامل مقاله ابتدا وارد سایت شوید

منابـــع و مراجــــع

۱ - Watts, J. F., Wolstenholme, J. “An Introduction to Surface Analysis by XPSAES”, 2nd Edition, New York, Wiley (2003).

۲ - Crist, B.V. “Handbooks of Monochromatic XPS Spectra”, USA, published by XPS International LLC (2004) .