رسوب دهی شیمیایی از فاز بخار آلی-فلزی MOCVD
در این مقاله روش رسوبدهی شیمیایی از فاز بخار آلی–فلزی (Metal-organic CVD) به عنوان زیرمجموعه روش رسوبدهی شیمیایی از فاز بخار (CVD) معرفی شده است. گستره وسیعی از ترکیبات آلی-فلزی در این روش به‌عنوان پیش ماده به‌کاربرده می‌شوند. این‌ها ترکیباتی هستند که در آن اتم یک فلز به یک یا چند اتم کربن، هیدروژن (هیدرید) یا گروه هیدروکربن آلی، متصل است. با استفاده از این روش، رشد هم‌بافته برای گستره وسیعی از ترکیبات نیمهرسانا III-V و II-VI فراهم می‌آید. آینده بسیار پرکاربردی برای این روش خصوصاً در مصارف اپتوالکترونیکی تصور می‌شود. در این مقاله تجهیزات لازم جهت انجام این فرآیند، واکنشهایی که میتوان با این فرآیند انجام داد و کاربردهای فرآیند MOCVD به‌خصوص در صنعت ساخت تجهیزات نوری، مورد بررسی قرار گرفته است.
این مقاله شامل سرفصل‌های زیر است:
1- مقدمه
2- پیش ماده‌های روش MOCVD
3- فرآیند MOCVD
4- تجهیزات MOCVD
5- کاربردها
1-5- MOCVD برای رسوب دادن فلزات
2-5- واکنشهای MOCVD برای رسوبدهی کاربیدها و نیتریدها
3-5- کاربرد MOCVD در لایه‌ها و ادوات اپتوالکترونیک
4-5- کاربردهای MOCVD در تجهیزات نوری
6- نتیجه‌گیری
لطفا برای مشاهده متن کامل مقاله ابتدا وارد سایت شوید
منابـــع و مراجــــع
۱ - Zilko, J. L., “Metallo-Organic CVD TechnologyEquipment,” in Handbook of Thin-Film Deposition ProcessesTechniques, (K. K. Shuegraf, ed.), Noyes Publications, Park Ridge, NJ (1988).
۲ - Burgraaf, P., “The Status of MOCVD Technology,”Semiconductor International,pp. 80–83 (July 1993).
۳ - James J. Coleman,''Metalorganic Chemical Vapor Deposition for Optoelectronic Devices'' PROCEEDINGS OF THE IEEE, VOL. 85, NO. 11(1997).
۴ - Hugh O. Pierson, ''HANDBOOK OF CHEMICAL VAPOR DEPOSITION (CVD) Principles, Technology,Applications'', 2nd ed, 1999, WILLIAM ANDREW PUBLISHING, LLC Norwich, New York, U.S.A.
۵ - “Metal AlkoxidesDiketonates,”“Double-Metal Alkoxides/ Heterometallic Alkoxides,” sections in Gelest Inc. Handbook, Milwaukee, WI (1995).
۶ - Cram, D. J.,Hammond, G. S.,'ganic Chemistry'' McGraw Hill Book Co., New York (1964).
۷ - Cotton, F. A.,Wilkinson, G.,Advanced Inorganic Chemistry, Interscience Publishers, New York (1982).
۸ - Suppliers of organo-metallic compounds include: Cerac Inc., Milwaukee, WI; Gelest Inc., Tullytown, PA; Strem Chemicals, Newburyport, MA; Shumaker Div., Air ProductsChemicals, Carlsbad, CA.
۹ - P. Daniel Dapkus,''''Metalorganic Chemical Vapor Deposition '' Ann. Rev. Mater. Sci. VOL. 12(1982).
۱۰ - Emanuel, M.,Metalorganic Chemical Vapor Deposition for the Heterostructure Hot Electron Diode, Noyes Data Corp., Park Ridge, NJ (1989).
۱۱ - Nakayama, Y., Ohkawa, S., Hashimoto, H., Ishikawa, H. 1975. J. Electrochem. Soc. 123:1228.
۱۲ - Benz, K. W., Renz, H., Weidlein, J., Pilkuhn, M. H. 1981. J. Electron. Mater. 10: 185.
۱۳ - Zaouk, A., Salvetat, E., Sakaya, J., Maury, F., Constant, G. 1 981. J. Cryst. Growth 55:135.
