رسوب دهی شیمیایی از فاز بخار به کمک پلاسما PECVD
رسوب دهی شیمیایی از فاز بخار به کمک پلاسما PECVD
همچون سایر روش‌های رسوب‌دهی شیمیایی از فاز بخار (CVD)، رسوب‌دهی شیمیایی از فاز بخار به کمک پلاسما (PECVD) فرایندی برای لایه‌نشانی (رسوب‌دهی) فیلم‌های نازک از یک ماده در حالت گاز (بخار) بر روی یک بستر است. در این فرآیند، با کمک تشکیل پلاسما (بیشتر تحت عنوان پلاسمای سرد شناخته می‌شود) در محفظه لایه‌نشانی، دمای کلی برای انجام فرآیند پایین می‌آید (به اعمال دمایی کمتر از دمای فرآیندهای ترموشیمی معمول نیاز است). از طرفی برخلاف روش‌های رسوب‌دهی فیزیکی از فاز بخار PVD (شامل روش کندوپاش و نهشت یونی –Ion Plating-...)، در طی فرایند PECVD واکنش‌های شیمیایی انجام می‌پذیرند. پلاسما معمولاً با تخلیه الکتریکی بین دو الکترود ایجاد می‌شود که فضای بین آن‌ها با گازهای واکنش‌دهنده پر شده است. پلاسما می‌تواند با جریان مستقیم یا با فرکانس رادیویی یا جریان متناوب به وجود آید. از مهمترین کاربردهای PECVD می‌توان به لایه‌نشانی مدارهای مجتمع و همچنین سطوح اپتوالکترونیکی (زمانی که استفاده از دمای بالا در راکتور ناممکن است) اشاره کرد.
این مقاله شامل سرفصل‌های زیر است:
1- مقدمه
2- پلاسما
1-2- پلاسمای تولید شده با تخلیه الکتریکی (جریان مستقیم و جریان متناوب)
3- راکتورهای مورد استفاده در رسوب‌دهی شیمیایی از فاز بخار به کمک پلاسما
4- کاربردهای رسوب‌دهی شیمیایی از فاز بخار به کمک پلاسما
5- نتیجهگیری
لطفا برای مشاهده متن کامل مقاله ابتدا وارد سایت شوید
منابـــع و مراجــــع
