آشنایی با روش‌های رسوبدهی شیمیایی از فاز بخار (CVD)
آشنایی با روش‌های رسوبدهی شیمیایی از فاز بخار (CVD)
روش رسوبدهی شیمیایی از فاز بخار (Chemical Vapor Deposition, CVD) به‌دلیل ویژگی‌های منحصربه‌فرد خود، به‌عنوان روشی کاربردی در تولید طیف وسیعی از قطعات سرامیکی و نیمه‌رسانا شناخته می‌شود. همچنین از این روش برای پوشش‌دهی سطوح مختلف با هدف بهبود مقاومت به خوردگی، سایش، اکسیداسیون، تنش‌های حرارتی و نیز ارتقاء خواص مکانیکی آن‌ها استفاده می‌شود. این مقاله، به طور اجمالی به معرفی فرایند CVD پرداخته و مبانی، مزایا، معایب و کاربردهای آن را مورد بحث و بررسی قرار می‌دهد. سپس انواع پیش‌ماده‌های مورد استفاده و انواع روش‌های CVD براساس خصوصیات فیزیکی بخار، به طور مفصل مورد مطالعه قرار می‌گیرد.
این مقاله شامل سرفصل‌های زیر است:
1- تاریخچه روش CVD
2- اساس روش CVD
3- مزایا و معایب روش CVD
4- کاربردهای روش CVD
5- انواع روش‌های CVD بر اساس حالت پیشماده
1-5- پیش‌ماده‌های گازی
2-5- پیش‌ماده‌های مایع
3-5- پیش‌ماده‌های جامد
6- انواع روش‌های CVD براساس خصوصیات فیزیکی بخار
1-6- CVD به‌کمک آئروسل (Aerosol Assisted CVD, AACVD)
2-6- CVD با تزریق مستقیم مایع (Direct Liquid Injection CVD, DLICVD)
3-6- روش‌های مبتنی بر پلاسما
1-3-6- CVD با کمک میکروموج‌های پلاسما (Microwave Plasma-assisted CVD: MPCVD)
2-3-6- CVD با پلاسمای ارتقا یافته (Plasma-Enhanced CVD: PECVD)
4-6- CVD لایه اتمی (Atomic Layer CVD: ALCVD)
5-6- CVD احتراقی (Combustion CVD: CCVD)
6-6- CVD آلی فلزی (Metal Organic CVD: MOCVD)
7-6- CVD حرارتی سریع (Rapid Thermal CVD: RTCVD)
8-6- CVD آغاز‌شده با فوتون (Photon Initiated CVD: PICVD)
7- انواع روش‌های CVD براساس فشار
1-7- CVD در فشار اتمسفری (Atmospheric Pressure CVD: APCVD)
2-7- CVD در فشار پایین (Low Pressure CVD: LPCVD)
3-7- CVD با خلأ بسیار بالا (Ultrahigh Vacuum CVD: UHVCVD)
8- مقایسه بین CVD و PVD
نتیجه‌گیری
این مقاله شامل سرفصل‌های زیر است:
1- تاریخچه روش CVD
2- اساس روش CVD
3- مزایا و معایب روش CVD
4- کاربردهای روش CVD
5- انواع روش‌های CVD بر اساس حالت پیشماده
1-5- پیش‌ماده‌های گازی
2-5- پیش‌ماده‌های مایع
3-5- پیش‌ماده‌های جامد
6- انواع روش‌های CVD براساس خصوصیات فیزیکی بخار
1-6- CVD به‌کمک آئروسل (Aerosol Assisted CVD, AACVD)
2-6- CVD با تزریق مستقیم مایع (Direct Liquid Injection CVD, DLICVD)
3-6- روش‌های مبتنی بر پلاسما
1-3-6- CVD با کمک میکروموج‌های پلاسما (Microwave Plasma-assisted CVD: MPCVD)
2-3-6- CVD با پلاسمای ارتقا یافته (Plasma-Enhanced CVD: PECVD)
4-6- CVD لایه اتمی (Atomic Layer CVD: ALCVD)
5-6- CVD احتراقی (Combustion CVD: CCVD)
6-6- CVD آلی فلزی (Metal Organic CVD: MOCVD)
7-6- CVD حرارتی سریع (Rapid Thermal CVD: RTCVD)
8-6- CVD آغاز‌شده با فوتون (Photon Initiated CVD: PICVD)
7- انواع روش‌های CVD براساس فشار
1-7- CVD در فشار اتمسفری (Atmospheric Pressure CVD: APCVD)
2-7- CVD در فشار پایین (Low Pressure CVD: LPCVD)
3-7- CVD با خلأ بسیار بالا (Ultrahigh Vacuum CVD: UHVCVD)
8- مقایسه بین CVD و PVD
نتیجه‌گیری
لطفا برای مشاهده متن کامل مقاله ابتدا وارد سایت شوید
منابـــع و مراجــــع
۱ - H O. Pierson, “handbook of chemical vapor deposition (CVD) principles, technology,applications”, 2th Ed, noyes publications Park Ridge, New Jersey, U.S.A, 2001.
۲ - K. L. Choy, “Chemical vapour deposition of coatings”, Materials Science 48 (2003) 57–170
۳ - Y. Xu; X. T. Yan, “Chemical Vapor Deposition, an Integrated Engineering Design for Advanced Materials” Springer, 2008.
۴ - C.A. Dorval Dion; J.R. Tavares, “Photo-Initiated Chemical Vapour Deposition as a Scalable Particle Functionalization Technology (A Practical Review)”. Powder Technology, 239 (2013) 484–49.
۵ - K. K. S. Lau; J. A. Caulfield; Karen K. Gleason, “StructureMorphology of Fluorocarbon Films Grown by Hot Filament Chemical Vapor Deposition” Chem. Mater., 12 (2000 3032–3037.
حسینی
۱۴۰۱/۱۰/۳۰مدیر سیستم
۱۴۰۱/۱۱/۰۱ممنون از دقت نظر شما
مورد ذکر شده اصلاح شد.
حسینی
۱۴۰۱/۱۰/۳۰مدیر سیستم
۱۴۰۱/۱۱/۰۱ممنون از دقت نظر شما
مورد ذکر شده، اصلاح شد.