11- لایه‌نشانی به روش کندوپاش
11- لایه‌نشانی به روش کندوپاش
با توجه به کاربرد لایه‌های نازک در بخشهای مختلف صنعت، تاکنون روش‌های مختلفی برای ساخت لایه‌های نازک معرفی شده است. یکی از روش‌هایی که برای ساخت لایه‌های نازک استفاده می‌شود، لایه‌نشانی به روش رسوب‌دهی فیزیکی از فاز بخار (PVD) است [1]. روش PVD یکی از روش‌های لایه‌نشانی در خلأ بوده و دارای انواع مختلفی است. روش کندوپاش به عنوان یکی از این روش‌ها دارای مراحل مختلفی شامل تبخیر ماده منبع، انتقال بخار از منبع به زیرلایه و تشکیل لایه نازک روی زیرلایه است [2]. در این روش، ماده هدف که به ولتاژ منفی متصل است، نقش کاتد را دارد. با برخورد ذرات پر‌انرژی به سطح ماده هدف، اتم‌ها یا مولکول‌های آن از سطح جدا شده و به بیرون پرتاب می‌شوند و در میدان ایجاد‌کننده پلاسما شتاب می‌گیرند. بدین ترتیب لایه‌ای از جنس ماده هدف روی زیرلایه (آند) که به ولتاژ مثبت متصل است، انباشت می‌شود. از این روش برای ایجاد پوشش و تهیه لایه‌های نازک برای کاربردهای اپتیکی، ذخیره‌سازی مغناطیسی و غیره مورد استفاده قرار می‌گیرد.
این مقاله شامل سرفصل‌های زیر است:
1- مقدمه
2- فرایند کندوپاش
1-2- انواع روش‌های کندوپاش
1) کندوپاش مغناطیسی
2) کندوپاش با دیود موازی
3) کندوپاش با دیود مسطح
4) کندوپاش تریودی
2-2- کندوپاش مگنترون (Magnetron sputtering)
3- مزایا و معایب
4- کاربردهای روش کندوپاش
1) لایه‌نشانی
2) حکاکی
3) آنالیز و مشخصه‌یابی
4) تولید نانوذرات
4- نتیجه‌گیری
این مقاله شامل سرفصل‌های زیر است:
1- مقدمه
2- فرایند کندوپاش
1-2- انواع روش‌های کندوپاش
1) کندوپاش مغناطیسی
2) کندوپاش با دیود موازی
3) کندوپاش با دیود مسطح
4) کندوپاش تریودی
2-2- کندوپاش مگنترون (Magnetron sputtering)
3- مزایا و معایب
4- کاربردهای روش کندوپاش
1) لایه‌نشانی
2) حکاکی
3) آنالیز و مشخصه‌یابی
4) تولید نانوذرات
4- نتیجه‌گیری
لطفا برای مشاهده متن کامل مقاله ابتدا وارد سایت شوید
منابـــع و مراجــــع
۱ - Kelly, Peter J.,R. Derek Arnell. "Magnetron sputtering: a review of recent developmentsapplications." Vacuum 56.3 (2000): 159-172.
۲ - Heyning, O. T., P. Bernier,M. Glerup. "A low cost method for the direct synthesis of highly Y-branched nanotubes." Chemical physics letters 409.1-3 (2005): 43-47.
۳ - Sarakinos, Kostas, Jones Alami,Stéphanos Konstantinidis. "High power pulsed magnetron sputtering: A review on scientificengineering state of the art." SurfaceCoatings Technology 204.11 (2010): 1661-1684
دهقان زاده
۱۴۰۲/۰۱/۰۹مدیر سیستم
۱۴۰۲/۰۱/۱۰ممنون از دقت نظر شما
مشکل بررسی و رفع میشه.