آشنایی با روش های رسوب دهی شیمیایی از فاز بخار -CVD

آشنایی با روش های رسوب دهی شیمیایی از فاز بخار -CVD
سطح مقاله

پیشرفته 1
کلمات کلیدی

رسوبدهی شیمیایی بخار CVD
امتیاز کاربران

۵ امتیاز از ۵ (۱ رای)

 
 
آمار مقاله

  • بازدید کل ۳,۴۴۲
 
آمار آزمون مقاله

  • کل شرکت کنندگان ۹۹
  • تعداد افراد شرکت کننده ۱۵
 
 

آشنایی با روش های رسوب دهی شیمیایی از فاز بخار -CVD

روش رسوب‌دهی شیمیایی از فاز بخار (Chemical Vapor Deposition, CVD) به‌دلیل ویژگی‌های منحصربه‌فرد خود، به‌عنوان روشی کاربردی در تولید طیف وسیعی از قطعات سرامیکی و نیمه‌رسانا شناخته می‌شود. همچنین از این روش برای پوشش‌دهی سطوح مختلف با هدف بهبود مقاومت به خوردگی، سایش، اکسیداسیون، تنش‌های حرارتی و نیز ارتقاء خواص مکانیکی آن‌ها استفاده می‌شود. این مقاله، به طور اجمالی به معرفی فرایند CVD پرداخته و مبانی، مزایا، معایب و کاربردهای آن را مورد بحث و بررسی قرار می‌دهد. سپس انواع پیش‌ماده‌های مورد استفاده و انواع روش‌های CVD براساس خصوصیات فیزیکی بخار، به طور مفصل مورد مطالعه قرار می‌گیرد.

این مقاله شامل سرفصل‌های زیر است:
1- تاریخچه روش CVD
2- اساس روش CVD
3- مزایا و معایب روش CVD

4- کاربردهای روش CVD
5- انواع روش‌های CVD بر اساس حالت پیش‎ماده
1-5- پیش‌ماده‌های گازی
2-5- پیش‌ماده‌های مایع
3-5- پیش‌ماده‌های جامد

6- انواع روش‌های CVD براساس خصوصیات فیزیکی بخار
1-6- CVD به‌کمک آئروسل (Aerosol Assisted CVD, AACVD)
2-6- CVD با تزریق مستقیم مایع (Direct Liquid Injection CVD, DLICVD)
3-6-روش‌های مبتنی بر پلاسما

1-3-6- CVD با کمک میکروموج‌های پلاسما (Microwave Plasma-assisted CVD: MPCVD)
2-3-6-CVD با پلاسمای ارتقا یافته (Plasma-Enhanced CVD: PECVD)
4-6- CVD لایه اتمی (Atomic Layer CVD: ALCVD)
5-6- CVD احتراقی (Combustion CVD: CCVD)
6-6- CVD آلی فلزی (Metal Organic CVD: MOCVD)
7-6- CVD حرارتی سریع (Rapid Thermal CVD: RTCVD)
8-6- CVD آغاز‌شده با فوتون (Photon Initiated CVD: PICVD)
7- انواع روش‌های CVD براساس فشار
1-7- CVD در فشار اتمسفری (Atmospheric Pressure CVD: APCVD)
2-7- CVD در فشار پایین (Low Pressure CVD: LPCVD)
3-7- CVD با خلأ بسیار بالا (Ultrahigh Vacuum CVD: UHVCVD)
8- مقایسه بین CVD و  PVD

نتیجه‌گیری


لطفا برای مشاهده متن کامل مقاله ابتدا وارد سایت شوید
منابـــع و مراجــــع
۱ - H O. Pierson, “handbook of chemical vapor deposition (CVD) principles, technology,applications”, 2th Ed, noyes publications Park Ridge, New Jersey, U.S.A, 2001.
۲ - K. L. Choy, “Chemical vapour deposition of coatings”, Materials Science 48 (2003) 57–170
۳ - Y. Xu; X. T. Yan, “Chemical Vapor Deposition, an Integrated Engineering Design for Advanced Materials” Springer, 2008.
۴ - C.A. Dorval Dion; J.R. Tavares, “Photo-Initiated Chemical Vapour Deposition as a Scalable Particle Functionalization Technology (A Practical Review)”. Powder Technology, 239 (2013) 484–49.
۵ - K. K. S. Lau; J. A. Caulfield; Karen K. Gleason, “StructureMorphology of Fluorocarbon Films Grown by Hot Filament Chemical Vapor Deposition” Chem. Mater., 12 (2000 3032–3037.
ارسال نظر