طیف‌نگاری فوتوالکترونی اشعه ایکس-XPS

طیف‌نگاری فوتوالکترونی اشعه ایکس-XPS
سطح مقاله

پیشرفته 1
کلمات کلیدی

XPS
امتیاز کاربران

امتیاز از ۵ (۰ رای)

 
مقالات مرتبط

 
آمار مقاله

  • بازدید کل ۸۴۳
 
آمار آزمون مقاله

  • کل شرکت کنندگان ۵۹
  • تعداد افراد شرکت کننده ۹
 
 

طیف‌نگاری فوتوالکترونی اشعه ایکس-XPS

طیف‎نگاری فوتوالکترونی اشعه ایکس (XPS)، روش آنالیزی برای بررسی سطح مواد از نقطه نظر آنالیز عنصری، ترکیب شیمیایی و تعیین حالت پیوندی است. در این روش، سطح نمونه با اشعه ایکسِ تک انرژی بمباران می‎شود و فوتوالکترون‎های پرانرژی‌ترِ تولید شده، موفق به فرار از ماده می‎شوند. این فوتوالکترون‎ها پس از ارسال به تحلیل‎گر انرژی و تعیین انرژی جنبشی آن‎ها، به آشکارساز هدایت می‎شوند تا تعداد فوتوالکترون‎های تولیدی با انرژی جنبشی مشخص شمارش شوند. در نهایت این اطلاعات به صورت تعداد فوتوالکترون‎ها بر حسب انرژی پیوندی رسم می‎شوند. از آن جایی که انرژی فوتوالکترون‎های داخلی، مشخصه هر اتم است؛ تعیین عناصر موجود در نمونه، با اندازه گیری انرژی‎های جنبشی فوتوالکترون‌های خارج شده از نمونه، امکان‎پذیر است. حالت شیمیایی عناصر موجود در نمونه، از انحرافات مختصر در انرژی‎های جنبشی و غلظت‎های نسبی آن عناصر با توجه به شدت‎های فوتوالکترون‎های مربوط به هر عنصر قابل اندازه‌گیری است.

این مقاله شامل سرفصل‌های زیر است:
1- مقدمه
2- اجزای تشکیل‎دهنده طیف‎نگار فوتوالکترونی اشعه ایکس
 1-2- منابع اشعه ایکس
 2-2- تحلیلگر انرژی
 3-2- آشکارساز
3- آماده‎سازی نمونه
4- طیف فوتوالکترون اشعه ایکس


لطفا برای مشاهده متن کامل مقاله ابتدا وارد سایت شوید
منابـــع و مراجــــع
۱ - Watts, J. F., Wolstenholme, J. “An Introduction to Surface Analysis by XPSAES”, 2nd Edition, New York, Wiley (2003).
۲ - Crist, B.V. “Handbooks of Monochromatic XPS Spectra”, USA, published by XPS International LLC (2004) .
ارسال نظر